Journal archive for Google Scholar Robot!

SRPH Journal of Fundamental Sciences and Technology

تحقیقات بنیادی علوم و تکنولوژی



Volume 5, Number 2 (2023-6)


Growth and Characterization of Tungsten Disulfide Monolayer Using Solution Precursor-Assisted Chemical Vapor Deposition Method
رشد و خصوصیات تک لایه دی سولفید تنگستن با استفاده از روش رسوب شیمیایی بخار به کمک محلول
| [Abstract-FA] | [Abstract-EN] | [PDF-FA] | [XML] |


Home | All volumes | All issues | All articles